https://www.reuters.com/world/china/asml-unveils-euv-light-source-advance-that-could-yield-50-more-chips-by-2030-2026-02-23/ 

加利福尼亚州圣地亚哥，2月23日（路透社）——ASML控股公司的研究人员表示，他们找到了一种方法，可以提升关键芯片制造机器中光源的功率，到十年末产量可提升多达50%，以帮助保持这家荷兰公司在新兴的美中竞争对手面前的优势。 
周一披露的关键进展是将锡滴数翻倍至约每秒10万次，并用两次较小的激光脉冲将其塑形成等离子体，而现在的机器只能用一次成型。 
Purvis表示，ASML相信其实现1000瓦发射的技术将推动未来持续进步，并补充道：“我们看到通往1500瓦的相当清晰的路径，没有根本理由不能达到2000瓦。”